CVD chemical vapor deposition

Парилен химическое осаждение из паровой фазы

CVD (химическое осаждение из паровой фазы), также известное как париленовое или нанопокрытие. CVD - это технология, которая представляет собой метод осаждения, используемый для производства высококачественных, высокопроизводительных, твердых материалов. Этот процесс часто используется в полупроводниковой промышленности для производства тонких пленки (0,1-100 мкм). В типичных сердечно-сосудистых заболеваниях деталь подвергается воздействию одного или нескольких летучих прекурсоров, которые реагируют и / или разлагаются на поверхности детали, образуя желаемый осадок. Зачастую также образуются летучие побочные продукты, которые удаляется потоком газа через реакционную камеру. Покрытие является однородным по толщине, компактным без отверстия, прозрачным без напряжения и без вспомогательных веществ, а также имеет отличную электроизоляцию и защиту. Это самый эффективный материал для защиты от влаги, от плесени, от коррозии и от соляного тумана.

CVD процесс

После нанесения покрытия электроника обладает высокой диэлектрической прочностью и превосходной устойчивостью к высоким и низким температурам (-100-200 градусов C), устойчива к коррозии, кислоте и щелочи, смазке, устойчива к пыли, влаге и ржавчине. Это прозрачный и водонепроницаемый (IP68), антивозрастной, биосовместимый материал.

Компания LPMS разработала оборудование для сердечно-сосудистых заболеваний и использовала его в электронной промышленности. Мы предоставляем готовые решения из материалов, технологий и оборудования. CVD широко используется в авиации, PCBA, светодиодах, магнитных материалах, датчиках, силиконовой резине, уплотнительных элементах, медицинском оборудовании, ценных реликвиях и т.д.

Особенности париленового покрытия CVD

• Good Biocompatibility. FDA(Class VI)comply and MIL I-46058C comply.

• Optical transparent, colorless can be used on optical elements and lighting components.

• The coating is chemically inert and has high chemical resistance and can withstand extremely  temperatures (-60°C to 200°C).

• It has high dielectric strength and low dielectric constant.

• Hydrophobic film, low surface energy, good dry film lubrication.

• At room temperature, nano coating layer is formed, and there is no thermal stress.

• The nano-coating is highly permeable, with no dead angle. The coating is complete and continuous without uniform thickness. 

• Very low air permeability, no pinhole, excellent waterproof (IP68)

• Highly conformal. does not form meniscus, nor does it gather or block delicate shapes.

• Radiation-resistant, for aerospace applications as well as for gamma rays and electron beam sterilization.

Температура

-60℃ 0℃ 60℃ 120℃ 180℃

-60～200℃

Покрытие выдерживает температуру

Сравнение CVD и конформного покрытия

 После CVD-покрытия продукт имеет высокую химическую чистоту поверхности, равномерное покрытие, без отверстий, без пузырьков, без отслаивания, без термического напряжения.

   После нанесения покрытия CVD, продукт имеет высокую химическую чистоту поверхности, равномерное покрытие, нет отверстий, нет пузырьков, нет отслаивания, нет термического напряжения.

Применение париленового покрытия

CVD широко используется в авиации, печатных платах, светодиодах, магнитных материалах, датчиках, силиконовой резине, уплотнительных элементах, медицинской технике, культурных ценностях и т.д.